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無(wú)錫綠禾盛環(huán)??萍加邢薰臼且患覍I(yè)從事水處理設(shè)備設(shè)計(jì)、制造、安裝、調(diào)試、技術(shù)開(kāi)發(fā)及配套材料銷售的公司,工程設(shè)備包括工業(yè)純水及超純水設(shè)備,海水淡化設(shè)備等.下面無(wú)錫純水設(shè)備分享半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備的工作原理及工藝流程.
一、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備概述
二、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理
EDI裝置將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi),形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下,通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水.EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
三、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備制備工藝復(fù)制成功
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